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        近年來,光刻機和蝕刻機一直是最熱門的話題.可以說,光刻機是芯片制造的靈魂,而蝕刻機是芯片制造的靈魂.要制造高端芯片,這兩件事必須是一流的.

        這兩個機器的最簡單的解釋是,光刻機將電路圖投影在覆蓋有光致抗蝕劑的硅片上,而蝕刻機將多余的電路圖刻在剛剛繪制了硅片的硅片上.電路圖這似乎并不困難.是的,但是圖像有一個隱喻.每個芯片上的電路結構擴展了數倍,并且比整個北京都要復雜.這是光刻和雕刻的困難.

        光刻工藝包括在已經發生的硅晶片表面上涂覆一層光致抗蝕劑(類似于凝膠的物質,可能會受到光的腐蝕),然后使光通過(過程困難,紫外光<深紫外光<極紫外光)圓形硅表面輻射穿過掩模(類似于投影).因為光致抗蝕劑被覆蓋,所以被照射的部分被記錄并且未照明的部分被留下.這部分是所需的電路結構.

        蝕刻有兩種類型,一種是干法蝕刻,另一種是濕法蝕刻(主流).顧名思義,濕法蝕刻是在加工過程中添加水.使光刻晶片與特定的化學溶液反應.其余部分是電路的結構.干雕刻尚未實現商業批量生產.原理是使用等離子體代替化學溶液來消除不必要的圓形硅部件.

        目前,中國蝕刻機和光刻機的發展是比較可惜的,而且還處于非常局部的狀況:中國微電子大規模生產7納米雕刻機已直接進入世界最受歡迎的列.無論是上海微電子的90納米光刻機還是無錫的陰影速度200納米光刻機,都遠遠沒有達到世界上最先進的7納米制程.在這兩個路徑中,我們還要繼續再接再厲.