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什么是光刻機？這種設備能不能運用在微流控上面
2021-01-19
光刻機是芯片制造中光刻工藝中的關鍵設備,具有很高的技術含量和價值含量.光刻機需要許多先進技術,例如系統集成,精密光學,精密運動,精密材料傳輸,高精度微環境控制等等.它是所有半導體制造設備中技術最先進的設備,因此單個值非常高.
激光:一種光源,是光刻機的關鍵設備之一.
光束對準器:修改光束的入射方向,使激光束盡可能平行.
能量控制器:控制最終施加到硅上的能量,曝光不足或曝光不足會嚴重影響圖像質量.
光束形狀設置:光束設置為具有不同的形狀,例如圓形和環形,并且不同的光束狀態具有不同的光學特性.
著色器:在不需要曝光時防止光束照射到晶圓上.
能量檢測器:檢測光束的最終入射能量是否滿足曝光要求,并將其提供回能量控制器進行調整.
面罩:內部裝有電路設計的玻璃板,價值數十萬美元.
掩模臺:一種執行標線片運動的設備,其運動控制精度達到納米級.
物鏡:物鏡由20多個透鏡組成,主要功能是減少掩模的示意圖,然后縮小到激光映射的硅片上,并且物鏡可以補償各種光學誤差.技術上的困難在于物鏡的設計和對高精度的要求.
測量表和曝光表:用于輸送硅晶片的工作臺典型的光刻機需要進行測量和重新曝光,而只需要一個工作臺ASML的雙工作光刻機就可以實現一個硅晶片的曝光和另一個硅晶片的曝光.可以測量和對準薄膜可以有效地提高工作效率.
內部密封框架,減震器:將工作臺與外部環境隔離,使其平整,減少外部振動干擾,保持穩定的溫度和壓力.
光刻機的分類
平版印刷機通常根據操作的簡單性分為三種類型:手動,半自動和全自動.
手動:是指對齊調整方法,通過X軸,Y軸和下沉角度更改為手動調整旋鈕,可以想象對齊精度.
B半自動:表示可以通過電軸根據CCD的位置調整對齊方式.
C自動:是指從印刷品上載和下載,曝光時間和曝光頻率由程序控制,自動光刻機主要滿足工廠對生產量的需求.
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